12 мая 2014

Компания EV Group получила награду за вклад в развитие производства полупроводниковой электроники на церемонии CSindustry awards 2014

Триумф установки EVG®PHABLE™, первого полностью автоматизированного производственного оборудования, реализующего запатентованную технологию PHALBE™ компании Eulitha. Технология является уникальным бесконтактным решением для формирования периодических микро- и наноструктур.

Компания EV Group (EVG), ведущий поставщик оборудования для сварки пластин и литографии на рынке МЭМС, нанотехнологий и полупроводников, получила престижную награду за вклад в развитие технологий производства полупроводниковой электроники (Semiconductor Manufacturing Award) на церемонии CS International 2014 за систему для фотолитографии EVG®PHABLE™.

Установка, выпущенная в ноябре 2013 года, — первая полностью автоматизированная производственная установка, в которой реализована уникальная технология формирования периодических наноструктур. PHABLE™ (сокр. от photonics enabler — «помощник в области фотоники») — это запатентованная технология, разработанная компанией Eulitha для снижения стоимости изготовления периодических наноструктур, в настоящее время необходимых, главным образом, для производства структурированных сапфировых пластин (PSS-технология) и для применений в области фотоники. Компания EVG приложила весь свой опыт и знания, чтобы создать систему, в которой реализована технология уникальной бесконтактной масковой литографии, обеспечивающей высокое разрешение производства наноструктур сразу по всей площади пластины (при высокой экономической эффективности). Эта инновационная технология использует все технических преимущества существующих фоторезистов и фотошаблонов, а также упрощает серийное производство массивов периодических структур, таких как матрицы отверстий или столбиковых структур, либо создание линейных решеток на большой площади, с высокой производительностью и размером элементов до 150 нм. В отличие от традиционных технологий контактной и проекционной литографии, а также литографии с зазором, большие расстояния между зазорами экспонирования (до нескольких сотен микрометров) не влияют на качество и точность получаемых структур. Таким образом, упрощается процесс таких структур на неровных поверхностях, например, на светодиодных пластинах. Фотолитографическая установка EVG®PHABLE™ востребована для производства светодиодов и фотоэлектроники как надежное высокопроизводительное решение для наноструктурирования.